全自動離子濺射儀為一種有著緊湊結構的桌上型鍍膜系統，對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔，之后試樣復原，再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應氣體。
全自動離子濺射儀的使用注意事項：
1、一般作業間隔可調，間隔越近，濺射速度越快，但熱損害會添加。
2、離子流的大小通過控制真空壓力實現，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結晶晶粒越粗，電子炮擊樣品(陽極)發生的熱量越高；真空度越高,I越小，濺射速度越慢，原子結晶晶粒越細微，電子炮擊樣品發生的熱量小。
3、加快電壓為固定,也有可調的，加快電壓越高，對樣品熱損害越大。一般運用金屬靶材的正比區域。
4、有些熱敏樣品，需要對樣品區進行冷卻，水冷或許帕爾貼冷卻；也能夠選用磁控設備，像電磁透鏡相同把電子違背樣品。經過這樣的改造，當然會添加很高的成本。能夠在白臘外表濺射一層金屬，而沒有任何損害！
5、真空中的雜質越多，鍍膜質量越差。一般黃金比較穩定，能夠選用空氣作為等離子氣源，而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。
6、氣體原子序數越高，動量越大，濺射越快，但晶粒會較粗，連續成膜的膜層較厚。
7、保持真空室的潔凈對高質量的鍍膜有很大優點。
8、不要讓機械真空泵長期保持極限真空，否則簡單反油。
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