離子濺射儀在樣品制備過程中為SEM用戶提供了更廣泛的選擇，以滿足支撐掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結構設計和人機界面方面，更加注重人性、簡潔和智能。同時，通過智能人機界面，控制儀器簡單方便。同時，它可以實時估計涂層厚度，顯示真空度和濺射電流。
離子濺射儀的操作注意事項：
1、一般來說，操作距離可以調整。距離越近，濺射速度越快，但熱損傷越大。
2、在真空壓力下，離子流速越大，濺射速度越快，電子轟擊樣品產生的熱量越大，產生的熱量就越大，所產生的熱量也越大，真空度越低，I越小，濺射速度就越慢，原子晶粒越細，電子轟擊試樣產生的熱量就會越小。
3、加速電壓固定且可調。加速電壓越高，樣品的熱損失越大。通常使用金屬靶的比例范圍。
4、一些熱敏樣品需要冷卻、水冷或珀爾帖冷卻，或者可以使用磁控制設備像電磁透鏡一樣從樣品中分離電子。當然，經過這種改造后，將增加非常高的成本，但可以濺到蠟表面上的金屬層不會造成任何損壞！相比之下，高成本可以帶來很多好處。
5、真空中雜質越多，涂層質量越差。一般來說，金是相對穩定的，可以使用空氣作為等離子氣源，而許多其他靶需要惰性氣體。
6、隨著氣體原子序數的增加，動量增加，濺射速度增加，但晶粒會變厚，連續膜會變厚。
7、真空室的清潔對高質量涂層非常有利。
8、機械真空泵不允許長時間保持真空極限，否則容易倒油。
9、使用離子濺射儀器時，應特別注意以上8點，保護儀器并盡可能延長其使用壽命。
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